設備說明：
磁控濺射真空鍍膜機是立式單開門非平衡磁控反應濺射鍍膜機。此設備所沉積的膜層在致密度、均勻度、純度、硬度等方面均有提高。廣泛應用于手表、眼鏡、通訊、電子、機械、裝飾和交通航空等領域的高檔裝飾和功能性薄膜。
主要特點：
1、 沉積速率快，溫升小，能較好的抑制打火及靶中毒現象；
2、 濺射釋放的高能量使膜層密度和附著力有顯著提高；
3、 觸摸屏幕+PLC，可實現全自動控制，自動/手動隨時切換；
4、 鍍膜室容積大，裝載量大，生產效率高。
5、 工件架采用公自轉結構，可設置自動正反轉，產品均勻性好；
6、 整機配置合理，抽氣速率快，噪聲小，耗能低；
基本配置：
1、 鍍膜室、閥門、管道均采用不銹鋼制造，立式、單開門結構，真空室有效直徑自Φ1000mm－Φ1800mm；
2、 真空系統由機械泵、旋片泵、羅茨泵和帶冷阱高真空油擴散泵或分子泵組成；
3、 鍍膜系統采用2~8套平面靶或柱靶，配有2~8個直流電源或中頻電源；
4、 輔助抽氣系統采用一臺低溫水汽捕集器；
5、 充氣系統采用1~4路氣體流量計及流量控制（顯示）儀控制；
6、 電控系統設置電路過載、斷水、斷氣聲光報警裝置；
7、 控制系統（觸摸屏+PLC），實時顯示詳細參數，全自動控制整個生產過程，并自動存儲工藝參數；
8、 可根據客戶要求配多套靶源。
技術參數：