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磁控濺射鍍膜機
磁控濺射真空鍍膜機

設備說明:
磁控濺射真空鍍膜機是立式單開門非平衡磁控反應濺射鍍膜機。此設備所沉積的膜層在致密度、均勻度、純度、硬度等方面均有提高。廣泛應用于手表、眼鏡、通訊、電子、機械、裝飾和交通航空等領域的高檔裝飾和功能性薄膜。

設備說明:
磁控濺射真空鍍膜機是立式單開門非平衡磁控反應濺射鍍膜機。此設備所沉積的膜層在致密度、均勻度、純度、硬度等方面均有提高。廣泛應用于手表、眼鏡、通訊、電子、機械、裝飾和交通航空等領域的高檔裝飾和功能性薄膜。
主要特點:
1、 沉積速率快,溫升小,能較好的抑制打火及靶中毒現象;
2、 濺射釋放的高能量使膜層密度和附著力有顯著提高;
3、 觸摸屏幕+PLC,可實現全自動控制,自動/手動隨時切換;
4、 鍍膜室容積大,裝載量大,生產效率高。
5、 工件架采用公自轉結構,可設置自動正反轉,產品均勻性好;
6、 整機配置合理,抽氣速率快,噪聲小,耗能低;
基本配置:
1、 鍍膜室、閥門、管道均采用不銹鋼制造,立式、單開門結構,真空室有效直徑自Φ1000mm-Φ1800mm;
2、 真空系統由機械泵、旋片泵、羅茨泵和帶冷阱高真空油擴散泵或分子泵組成;
3、 鍍膜系統采用2~8套平面靶或柱靶,配有2~8個直流電源或中頻電源;
4、 輔助抽氣系統采用一臺低溫水汽捕集器;
5、 充氣系統采用1~4路氣體流量計及流量控制(顯示)儀控制;
6、 電控系統設置電路過載、斷水、斷氣聲光報警裝置;
7、 控制系統(觸摸屏+PLC),實時顯示詳細參數,全自動控制整個生產過程,并自動存儲工藝參數;
8、 可根據客戶要求配多套靶源。
技術參數:

總重量 3500kg~6000kg
名義功率 80KW~180KW
抽速(新機、空載) 2×10-3Pa≦8min
極限真空(新機、空載) ≦8×10-4Pa
壓升率(新機、空載) 0.67Pa/小時
工件轉速 0~20r/min

 

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寧波駿鷹真空科技有限公司

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