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      電子導電薄膜專用磁控濺射鍍膜線
      電子導電薄膜專用 磁控濺射鍍膜線

      1.外觀尺寸:4200mm (L)χ1700mm (W)χ1950mm (H)
      2.進料區:可放置625mmχ505 mm料盤二十盤,一盤Max 35個治具,一次入料Max可達700個治具,自動送料盤結構配置一個KY- 400高真空分子泵或10 FCryo pump及採用Rotary pump + Booster之低真空pump組合,抽氣速率可達10000 L/hr
       

      1.外觀尺寸:4200mm (L)χ1700mm (W)χ1950mm (H)
      2.進料區:可放置625mmχ505 mm料盤二十盤,一盤Max 35個治具,一次入料Max可達700個治具,自動送料盤結構配置一個KY- 400高真空分子泵或10 FCryo pump及採用Rotary pump + Booster之低真空pump組合,抽氣速率可達10000 L/hr
      3.鍍膜製程區:本區域設計共8個濺射陰極,採用上方四個、下方四個,並以左右對稱之方式設計,配置一個10FCryo pump,前後     各配置一個(共兩個)方形閘閥,使入料及出料可保持真空。
      4.出料區:二十盤料盤,Max700個治具,一次出料自動收料機構。
      5.電控裝置區:採用日本三菱PLC,高信賴度,易於保養維護。
      二:設計概念:

      採用最簡化即是最佳化(Simple Is The Best)設計理念。針對以下問題點做全面考量:
      • 腔體尺寸
      • 機構設計
      • 抽氣系統設計
      • 靶材更換便利性
      • 設備維護保養
      • 鍍膜品質需求
      • 軟體功能設計
      • 生產效率
      三:系統特色
      • 腔體採用模組化設計,易於搬運及組合,機構易調校
      • 自動送料、收料系統
      • 多靶濺射,生產速度快
      • 軟硬體高度整合以減少人為操作錯誤的可能性
      • 圖形化操作介面,易學易操作,動態顯示設備運轉現狀
      • 控制電路板佔用空間小,設計上易維修與查線
      • 附換靶臺車,省力方便。
      四:系統組態及系統規格
      4.1系統組態:

      項目 名稱 規格型號 數量 備註
      1 真空腔膛

      三腔式不銹鋼SUS304

       

       
      2 磁控濺射陰極 5”×22”   8  
      3 直流濺射電源 8KW(ADL) 8

      德國

      4 機械真空泵 ULVACVDN-902 1  
      5 高真空分子泵 KY-400分子泵 3

      或冷凍泵CTI 10F 

      6 高真空冷凍壓縮機 9600 3  
      7 機械真空泵+Booster ULVAC VDN-902+NB600    
      8 軸封 採用磁性流體斷真空

      5

       
      9 大門閥  10” 3  
      10 高低真空計    美國G.P 共4    
      11 Throttle Valve 蝶形  1  
      12 自動GAB流量控制  Ar  1  
      13 PLC觸控系統   1  
      14 料盤

      625mm x 525mm

      20片    
      15 換靶臺車   1臺  

      4.2系統規格及技術指標:
       1. 控制系統;
        採用三菱PLC自動控制+人機介面
       2.腔體Chamber
       材質:SUS304不銹鋼材質外加Water Jacket出料區、進料區大門材質為鋁合金
       3.電漿源與靶材
       電漿源:磁控濺射源x 8、水冷式〈上方四靶,下方四靶〉靶材尺寸:5”x 22”x 1/2”Target
      固定方式:Clamp type 
      4.DC電源供應器
       MAX 8 KW水冷式

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